RPS遠程等離子源在柔性電子制造中的適應性柔性電子使用塑料或薄膜基板，對熱和機械應力敏感。RPS遠程等離子源通過低溫操作，避免了基板變形或降解。其非接觸式清洗去除了污染物，提升了導電跡線的附著力。在OLED照明或可穿戴設備制造中，RPS遠程等離子源確保了工藝的可重復性。隨著柔性市場增長，該技術提供了必要的精度和靈活性。RPS遠程等離子源的未來發展趨勢隨著制造業向更小節點和更復雜材料發展，RPS遠程等離子源正不斷進化。未來版本可能集成AI實時優化，或支持更高頻率的等離子體生成。在可持續發展方面，RPS遠程等離子源將聚焦于更節能的設計和可回收氣體。其應用也可能擴展到新能源或生物醫學領域。東莞市晟鼎精密儀器有限公司致力于創新，推動RPS遠程等離子源成為智能制造的基石。遠程等離子工作時，本身的鍍膜工藝是不工作的，沒有直接接觸有機發光材料，就不會對有機發光材質造成損傷。河南RPS石英舟清洗

晟鼎RPS遠程等離子體源產品特性：01.duli的原子發生器；02.電感耦合等離子體技術；03集成的電子控制及電源系統，實現了功率自適應調節；04內循環強制風冷散熱+水冷散熱，極大程度避免環境污染內部元器件；05.輸入電檢測，避免設備工作于異常交流輸入電壓；06.配置了模擬總線控制接口；07.先進的表面處理工藝保證了腔體長時間穩定的運行；08.簡化的工作模式方便了用戶的使用；06.氣體解離率高，效果可媲美進口設備。主動網絡匹配技術:可對不同氣體進行阻抗匹配，使得等離子腔室獲得大能量。重慶推薦RPS等離子源處理cvd腔室在新能源電池制造中實現電極材料的表面改性。

在PECVD、LPCVD等薄膜沉積設備中，腔室內壁積累的非晶硅、氮化硅等沉積物會降低熱傳導效率，導致工藝漂移。RPS遠程等離子源通過定制化的氣體配方（如NF3/O2混合氣體），在200-400℃溫度范圍內實現高效腔室清洗。其中氟基自由基與硅基沉積物反應生成揮發性SiF4，清洗速率可達5-10μm/min。實際應用數據顯示，采用RPS遠程等離子源進行預防性維護，可將CVD設備的平均故障間隔延長至1500工藝小時以上，顆粒污染控制水平提升兩個數量級。

RPS遠程等離子源應用原理：遠程等離子的處理作用，是非常輕微的刻蝕，有一定的活性作用，主要與腔室內部的殘余氣體發生作用。但是對腔室內部的固體物質，例如：腔室內壁的金屬材料與腔室內部的零配件，在工作時間較短（幾十分鐘）的情況下，一般只會發生淺表層的反應，幾十納米至幾微米，因為腔室內部的材質一般是鋁合金、不銹鋼等，不容易被氧離子所刻蝕。遠程等離子工作時，用戶本身的鍍膜工藝是不工作的，所有沒有直接接觸到有機發光材料，就不會對有機發光材質造成損傷。即使是直接接觸，其發生的輕微的表面作用，也不會造成損傷。在超導腔處理中實現原子級潔凈表面制備。

遠程等離子體源（Remote Plasma Source，RPS）是一種用于產生等離子體的裝置，它通常被用于在真空環境中進行表面處理、材料改性、薄膜沉積等工藝。RPS 通過將氣體輸送到裝置中，利用電場或者磁場產生等離子體，然后將等離子體傳輸到需要處理的表面區域。與傳統等離子體源不同的是，RPS 通常不直接接觸要處理的表面，而是在一定距離之外產生等離子體，并將等離子體輸送到目標表面，因此被稱為“遠程等離子體源”。遠程等離子體源RPS的主要優點在于它可以實現對表面的均勻處理，而且對于一些敏感的表面或者材料，由于遠離等離子體，因此減少了對表面的熱和化學損傷。此外，遠程等離子體源RPS可以被集成到真空處理系統中，使得表面處理和材料改性的工藝更加靈活和高效。RPS遠程等離子源原理。河南RPS石英舟清洗

為量子計算超導電路提供無損傷表面清潔。河南RPS石英舟清洗

服務于航空航天和電動汽車的SiC/GaN功率模塊，其散熱能力直接決定了系統的輸出功率和壽命。功率芯片與散熱基板（如DBC）之間的界面熱阻是散熱路徑上的關鍵瓶頸。RPS遠程等離子源應用領域在此環節通過表面活化來優化界面質量。在焊接或燒結前，使用RPS對芯片背面和DBC基板表面進行清洗和活化，能徹底去除有機污染物和弱邊界層，并大幅提高表面能。這使得液態焊料或銀燒結膏在界面處能實現充分的潤濕和鋪展，形成致密、均勻且空洞率極低的連接層。一個高質量的連接界面能明顯 降低熱阻，確保功率器件產生的熱量被快速導出，從而允許模塊在更高的功率密度和更惡劣的溫度環境下穩定運行，滿足了車規級AEC-Q101和航空AS9100等嚴苛標準的要求。河南RPS石英舟清洗